Was ist Dotierung?

Das Wort Dotierung stammt aus der lateinischen Sprache und bedeutet ausstatten. Das bedeutet, dass Fremdatome (z.B. Bor, Gallium, Phosphor oder Arsen) in das Material eines integrierten Schaltkreises eingefügt werden.

Die Menge der Fremdatome ist sehr gering, soll jedoch Eigenschaften des Materials, wie die Leitfähigkeit, verändern. Bekannt ist die Dotierung bei anorganischen Halbleitern, bei denen es eine p- und n- Dotierung gibt. Die p-Dotierung beschreibt dabei das Einbringen von Fremdatomen, die Elektronen aufnehmen. Werden Elektronen durch die Atome abgegeben, spricht man von n-Dotierung.

Die Fremdatome ersetzen ein ursprüngliches Atom des Halbleiters wodurch sich dann, im Fall von n- Dotierung, freie Elektronen im Leiter befinden, die beim Anlegen einer Spannung einen Stromfluss erzeugen.

Dotierung verändert die Leitereigenschaften

Bei der p-Dotierung entsteht jedoch ein Loch an einer Bindungsstelle zwischen den Atomen, das als freibeweglicher positiver Ladungsträger wirkt. Somit kann ebenfalls ein Strom fließen
Neben der p- und n-Dotierung kann man Fremdatome allerdings auch per Diffusion, Ionenimplantation oder Neutronen- Transmutationsdotierung einbringen. Bei letzterem Verfahren wird das Material des Leiters mit Neutronen beschossen.


Dadurch wird es radioaktiv und zerfällt zu Phosphor. Bei dem Verfahren ist es mögliche sehr homogene Ergebnisse zu erzielen, weshalb es für die Leitungselektronik eingesetzt wird.